【摘 要】
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本文研究了腐蚀介质氨水、成膜剂铁氰化钾及磨粒γ-Al2O3浓度、抛光压力和抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响.解释了各影响因素的影响机理.实验表明了在一定范围内抛光速
【机 构】
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中南大学化学化工学院,中南大学矿物工程系
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本文研究了腐蚀介质氨水、成膜剂铁氰化钾及磨粒γ-Al2O3浓度、抛光压力和抛光转速对铜化学-机械抛光速率的影响.解释了各影响因素的影响机理.实验表明了在一定范围内抛光速率与抛光压力及抛光转速呈线性关系,组分浓度对抛光速率的影响为非线性关系,Preston系数Kp是变量.最大抛光速率的化学-机械抛光液的配方为:4 %K3Fe(CN)6+1 %NH3*H2O+25 %γ-Al2O3,Kp=0.023 83;工艺条件为:300 r/min、80kpa.最佳抛光效果为:Ra=50 nm,Rmax=400 nm.
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