【摘 要】
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MOCVD原位红外测温方法主要有单色辐射测温法与双波长比色测温法。利用薄膜等厚干涉模型与Kirchhoff定律计算了Si（111）衬底生长10μm GaN外延片的940nm、1 550nm光谱发射率,以T
【机 构】
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商洛学院化学工程与现代材料学院,陕西省尾矿资源综合利用重点实验室,南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心
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MOCVD原位红外测温方法主要有单色辐射测温法与双波长比色测温法。利用薄膜等厚干涉模型与Kirchhoff定律计算了Si（111）衬底生长10μm GaN外延片的940nm、1 550nm光谱发射率,以Thomas Swan CSS MOCVD为例,比较了500℃至1 300℃范围内,940nm单色辐射测温法、1 550nm单色辐射测温法、940nm与1 550nm双波长比色测温法的相对误差和相对灵敏度,以及单色辐射测温法与双波长比色测温法的校准修正,并利用940nm与1 550nm双波长比色测温法在线监
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