【摘 要】
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目的:利用Hoechst33342/PI双染法和原位末端标记法(TUNEL染色检测纳米二氧化硅(nm-SiO2)对神经细胞凋亡的影响,比较两种检测方法的优缺点。方法:以体外培养的人神经母细胞瘤S
【机 构】
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深圳市疾病预防控制中心,深圳市现代毒理学重点实验室; 深圳大学生命科学学院生物化学与分子生物学教研室;
【基金项目】
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国家自然科学基金(81102154);广东省医学科研基金资助项目(B2012322);深圳市科学研究计划(医疗卫生类)(201202086);深圳市重点实验室提升项目(ZDSY20120615085804889)
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目的:利用Hoechst33342/PI双染法和原位末端标记法(TUNEL染色检测纳米二氧化硅(nm-SiO2)对神经细胞凋亡的影响,比较两种检测方法的优缺点。方法:以体外培养的人神经母细胞瘤SK-N-SH为研究对象,15和30 nm粒径的nm-SiO2(剂量为2.5、5、10μg/mL)分别处理细胞24 h,另设1~5 m SiO2组和溶剂对照组,采用Hoechst33342/PI双染法和TUNEL染色检测各处理组对SK-N-SH细胞凋亡的影响。结果:与对照组相比,两种检测方法分析均显示了nm-SiO2处理组SK-N-SH细胞凋亡率显著增加(P<0.05),且具有尺寸、剂量依赖性,而微米级SiO2对凋亡的影响不显著(P>0.05)。结论:nm-SiO2能诱导SK-N-SH细胞凋亡。Hoechst33342/PI双染法特异性高,简单易行;TUNEL法灵敏度高,能检测少量的细胞凋亡,但成本较高,两种方法可结合使用以便更加准确的检测神经细胞的凋亡。
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