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聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究
聚丙烯核孔膜化学蚀刻工艺研究
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:w66827552
【摘 要】
:
探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾浓度、硫酸浓度、蚀刻温度的数学关联式;并选
【作 者】
:
孙志国
张泉荣
何向明
严玉顺
【机 构】
:
清华大学核能技术设计研究院
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
2002年1期
【关键词】
:
核孔膜
聚丙烯
基体蚀刻速率
化学蚀刻工艺
蚀刻剂
塑料薄膜
重离子照射
Nuclear track membrane
Polypropylene
Bulk
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探讨了蚀刻剂中重铬酸钾浓度、硫酸浓度及蚀刻温度、蚀刻时间等因素对聚丙烯膜基体蚀刻速率的影响;建立了基体蚀刻速率与重铬酸钾浓度、硫酸浓度、蚀刻温度的数学关联式;并选择一定的蚀刻条件对辐照过的聚丙烯膜进行蚀刻,得到了预期孔径的聚丙烯核孔膜.
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