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集成电路刻蚀效果三维显示及其关键技术研究
集成电路刻蚀效果三维显示及其关键技术研究
来源 :计算机工程与应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kimi170
【摘 要】
:
集成电路仿真是集成电路制造的重要辅助方法,刻蚀过程是集成电路制造的一个重要的过程。使用三角形面片对刻蚀过程进行建模,并推导出连接不同面的平面和曲面的计算公式。最后给
【作 者】
:
吴永亮
万旺根
崔滨
【机 构】
:
上海大学通信与信息工程学院
【出 处】
:
计算机工程与应用
【发表日期】
:
2009年23期
【关键词】
:
刻蚀
三维
面连接
etching
3D
planes linking
【基金项目】
:
国家高技术研究发展计划(863)(the National High-Tech Research and Development Plan of China under Grant No.2007AA01Z319),上海市国际合作项目(No.075107035),上海市教委电路与系统重点学科(No.J50104),上海大学研究生创新基金项目(the Shanghai University' s G
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集成电路仿真是集成电路制造的重要辅助方法,刻蚀过程是集成电路制造的一个重要的过程。使用三角形面片对刻蚀过程进行建模,并推导出连接不同面的平面和曲面的计算公式。最后给出了刻蚀显示仿真结果。结果显示,刻蚀结果清晰,绘制速度快,占用资源少,可以满足实际的刻蚀显示要求。
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