在PCVD工艺中氟对光纤损耗的影响

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【摘要】

：

本文叙述在PCVD法中应用CCl2F2作氟源,在制备低OHˉ、低损耗长波长多模梯度光纤的研究结果。 CCl2F2容易获得,价格便宜,效果优异,掺F多模梯度光纤在1.39μm的OHˉ附加衰耗已

【作者】

：

邓都才王艳芳熊建纯张穆罗慧英谢培英

【机构】

：

武汉邮电科学研究院,武汉邮电科学研究院,武汉邮电科学研究院,武汉邮电科学研究院,武汉邮电科学研究院,武汉邮电科学研究院

【出处】

：

通信学报

【发表日期】

：

1986年03期

【关键词】

：

长波长

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本文叙述在PCVD法中应用CCl₂F₂作氟源,在制备低OHˉ、低损耗长波长多模梯度光纤的研究结果。 CCl₂F₂容易获得,价格便宜,效果优异,掺F多模梯度光纤在1.39μm的OHˉ附加衰耗已接近1dB/km。并获得了在1.30μm和1.55μm衰耗分别为0.41dB/km和0.21dB/km的超低损耗多模涕度光纤。掺氟单模光纤在1.3μm的衰耗已达0.9dB/km。

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