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依据等离子刻蚀机设备在CCD 研制中所起的关键作用,对提高刻蚀多晶硅电极的质量作了一些探讨,并给出了解决办法和结果.
CCD多晶硅栅条刻蚀的质量控制
【摘 要】
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依据等离子刻蚀机设备在CCD 研制中所起的关键作用,对提高刻蚀多晶硅电极的质量作了一些探讨,并给出了解决办法和结果.
【机 构】
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重庆光电技术研究所
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2002年3期
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