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目的研究不同溅射功率对W-C：H涂层结构与摩擦学性能的影响。方法用非平衡磁控溅射（UBMS）＋等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）,以WC靶作为溅射靶,C2H2为反应气体,通过调制溅射靶功率,在316不锈钢与Si（100）基体上制备了W-C：H系列薄膜。通过场发射电镜（FESEM）、X射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱对薄膜的微观结构和成分进行了表征。用UMT-3MT多功能摩擦机对薄膜的摩擦学性能进行了分析。结果 W-C主要以β-WC1-x纳米晶的形式均匀分布在非晶碳中,并表现出（200）面择优生长。随着