采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫......

目的研究不同溅射功率对W-C：H涂层结构与摩擦学性能的影响。方法用非平衡磁控溅射（UBMS）＋等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）,以WC靶作为......