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用相位掩模法制造光纤光栅是一种简单、有效的方法。本文用标量衍射理论对相位掩膜的近场衍射特性进行了分析，讨论了各级衍射光形成的干涉条纹的分布情况，得到了一些有益于光纤光栅制造的结构和有用公式。
相位掩模的近场衍射特性分析
【摘 要】
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用相位掩模法制造光纤光栅是一种简单、有效的方法。本文用标量衍射理论对相位掩膜的近场衍射特性进行了分析，讨论了各级衍射光形成的干涉条纹的分布情况，得到了一些有益于光纤
【机 构】
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中国科学院西安光学精密机械研究所
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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2000年12期
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目!( 698780 0 1 )
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