【摘 要】
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<正>一引言MCVD工艺,即改进的化学气相沉积法,是英文Modified Chemical Vapor Deposition的简称,1973年,由贝尔实验室的Machesney等人首先提出。MCVD工艺可以生产折射率机构
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<正>一引言MCVD工艺,即改进的化学气相沉积法,是英文Modified Chemical Vapor Deposition的简称,1973年,由贝尔实验室的Machesney等人首先提出。MCVD工艺可以生产折射率机构复杂的光纤结构。在光纤制造方面,它拥有极大的灵活性,比如光纤材料选择和光纤尺寸设计等。利用MCVD制作的多模和单模光纤在衰减、带宽、数值孔径、弯曲灵敏度、连接损耗、机械性能等方面都有较大的改进。二MCVD工艺MCVD工艺制造光纤预制棒大体可以分为两步,现概述
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