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半导体ZnO晶体生长及其性能研究进展
半导体ZnO晶体生长及其性能研究进展
来源 :材料导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:johnathan126
【摘 要】
:
ZnO晶体是直接宽带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,激子束缚能为60meV.其禁带宽度对应紫外光的波长,有望开发蓝绿光、蓝光、紫外光等多种发光器件.对ZnO晶体的生长方法
【作 者】
:
巩锋
臧竞存
杨敏飞
【机 构】
:
北京工业大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
材料导报
【发表日期】
:
2003年2期
【关键词】
:
ZNO
晶体生长
性能
直接宽带隙材料
半导体材料
氧化锌
ZnO crystal
direct wide band gap material
semicond
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ZnO晶体是直接宽带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.37eV,激子束缚能为60meV.其禁带宽度对应紫外光的波长,有望开发蓝绿光、蓝光、紫外光等多种发光器件.对ZnO晶体的生长方法及研究进展做了简要的叙述.
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