【摘 要】
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离子注入技术在半导体工业中已成为重要的加工技术,离子注入金属材料表面改性也开始走向实用阶段.对这项技术人们又提出了两种新的方法,第一种叫IVD方法(ion andvapour depos
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离子注入技术在半导体工业中已成为重要的加工技术,离子注入金属材料表面改性也开始走向实用阶段.对这项技术人们又提出了两种新的方法,第一种叫IVD方法(ion andvapour deposition),第二种叫离子束缝合法(ionbeam bonding).这就开拓了离子注入技术的一些新的应用领域,如磁泡材?
Ion implantation technology has become an important processing technology in the semiconductor industry, and the surface modification of ion implantation metal materials has also started to move toward a practical stage. Two new methods have been proposed for this technology. The first one is the ion andvapour The second is ionbeam bonding, which opens up new applications for ion implantation technologies such as magnetic foams.
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