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利用电化学沉积法制备了铁镍合金薄膜,研究了离子浓度比、p H、温度、电流密度等工艺条件对镀层成分含量的影响,并对镀层的表面形貌、内应力、物相组成、磁性能及屏蔽效能等进行了表征,优化出了最优工艺参数,得到了性能优异、可剥离的铁镍合金薄膜。
铁镍合金磁屏蔽薄膜的制备及性能
【摘 要】
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利用电化学沉积法制备了铁镍合金薄膜,研究了离子浓度比、p H、温度、电流密度等工艺条件对镀层成分含量的影响,并对镀层的表面形貌、内应力、物相组成、磁性能及屏蔽效能等
【机 构】
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北京工业大学材料科学与工程学院,总后勤部军需装备研究所
【出 处】
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安全与电磁兼容
【发表日期】
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2015年04期
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