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以离子注入工艺为例，通过研究沟道效应对离子注入工艺的影响，提出了建立设备模型的必要性，并且编程加以实现。
内嵌设备模型的离子注入工艺模拟程序
【摘 要】
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以离子注入工艺为例，通过研究沟道效应对离子注入工艺的影响，提出了建立设备模型的必要性，并且编程加以实现。
【机 构】
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清华大学微电子学研究所
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2003年5期
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