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微波等离子体CVD制备金刚石薄膜
微波等离子体CVD制备金刚石薄膜
来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:WatsonWen
【摘 要】
:
用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石薄膜,同时用双探针、发射光谱诊断了沉积过程的等离子体参数,并讨论了工艺参数和等离子体参数对膜质量的影响。
【作 者】
:
高克林
王春林
詹如娟
彭定坤
孟广耀
刘金英
项志遴
【机 构】
:
中国科学技术大学近代物理系,材料科学与工程系,中国科学技术大学近代物理系结构分析开放实验室,合肥,230026,结构分析开放实验室,结构分析开放实验室
【出 处】
:
人工晶体学报
【发表日期】
:
1993年2期
【关键词】
:
金刚石薄膜
化学汽相沉积
diamond filmsmicrowave plasma chemical vapor depositionplasma diagn
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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用微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石薄膜,同时用双探针、发射光谱诊断了沉积过程的等离子体参数,并讨论了工艺参数和等离子体参数对膜质量的影响。
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