论文部分内容阅读
用十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为插层剂，制备了超分散有机蒙脱土．对超分散有机蒙脱土制备的影响因素进行考察．影响因素按影响有机化效果排序为：CTAB用量、反应时间比、反应温度、pH值．并用红外光谱、XRD、SEM、小角激光表征了其微观结，在一定工艺条件下制得的超分散有机蒙脱土d001晶面间距值一般为3．13nm，比国产有机蒙脱土和美国进口有机蒙脱土层间距大了1．86nm和1．02nm．