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用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）剥层分析方法，研究ＡｌＮ薄膜在大气中加热时的氧化性能，结果表明，常温时ＡｌＮ薄膜稳定；在７００℃加热时，Ａｌ２Ｏ３膜开发增厚，ＡｌＮ被氧化，加热温度愈高ＡｌＮ被氧化得愈剧烈。
AIN薄膜的成分、相结构和氧化性能
【摘 要】
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用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）剥层分析方法，研究ＡｌＮ薄膜在大气中加热时的氧化性能，结果表明，常温时ＡｌＮ薄膜稳定；在７００℃加热时，Ａｌ２Ｏ３膜开发增厚，ＡｌＮ被氧化，加热温度愈高ＡｌＮ被氧化得愈剧烈。
【机 构】
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哈尔滨工业大学
【出 处】
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材料研究学报
【发表日期】
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1995年4期
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