【摘 要】
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利用低温等离子复合技术在坡莫合金等软磁材料表面淀积Ａ１２Ｏ３膜，对其性能进行测试，并研究了在磁头芯片表面形成优良的绝缘膜的应用情况。
A12O3 film was deposited on the surface
【机 构】
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利用低温等离子复合技术在坡莫合金等软磁材料表面淀积Ａ１２Ｏ３膜，对其性能进行测试，并研究了在磁头芯片表面形成优良的绝缘膜的应用情况。
A12O3 film was deposited on the surface of soft magnetic material, such as permalloy, by low temperature plasma composite technology. The performance of the film was tested and the application of the excellent insulating film formed on the surface of the head chip was studied.
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