论文部分内容阅读
强激光辐照下集成电路Si片的椭圆偏振光研究
【机 构】
：
中国科学院力学研究所一机部自动化所
【出 处】
：
中国激光
【发表日期】
：
1982年9期
其他文献
A new type of bismuth silicate glass (Bi2O3-SiO2-ZnO-Al2O3-La2O3) doped with Tm2O3 is prepared by melt-quenching method. The thermal stability of the glass is examined by differential scanning calorimetry. No crystallization peak is found. Using the absor
本文制备了四新戊氧基酞菁锌(Tetra-neopentoxy phthalocyanine zine)(TNPPeZn)和四壬基酞菁铜(Tetra-nonyl phthalocyanine copper)(TNPeCu)两种酞菁衍生物的Langmuir-Blodgett(LB)薄膜.通过测量10～473K温度下的吸收光谱,研究了两种薄膜的分子聚集状态.TNPPeZn的LB薄膜中,存在着分子单体和分子二聚体,在吸收光谱中分别表现为680nm和620nm的吸收峰.随着温度的升高,分子单体逐渐转变为分子二聚体,