【摘 要】
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我校微电子所周南生副教授等的“耐熔金属硅化物”研究成果1989年12月通过部级技术鉴定。此项研究在国外始于80年代中期,该课题组立足国内设备条件,跟踪国际水平,历时两年,
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我校微电子所周南生副教授等的“耐熔金属硅化物”研究成果1989年12月通过部级技术鉴定。此项研究在国外始于80年代中期,该课题组立足国内设备条件,跟踪国际水平,历时两年,采用PECVD法在国内首次制备成功性能良好的硅化钛薄膜材料。这一新型材
Our school of Microelectronics, Associate Professor Zhou Nansheng “refractory metal silicide” research results in December 1989 through ministerial technical appraisal. The study began abroad in the mid-1980s. Based on the domestic equipment conditions and following the international standards, the research group lasted for two years. The PECVD method was the first to prepare a successful titanium silicide film material in China. This new profile
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