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期刊论文
CVD金刚石膜场致发射的机理
CVD金刚石膜场致发射的机理
来源 :真空与低温 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mimi107
【摘 要】
:
金刚石膜场致发射过程是电子从导电基底开始,经基底/金刚石界面、金刚石薄膜体内传输到表面,然后穿过表面势垒进入真空、经真空电场加速到达阳极的一个复杂过程.对该过程进行
【作 者】
:
雷青松
【机 构】
:
兰州物理研究所
【出 处】
:
真空与低温
【发表日期】
:
2003年2期
【关键词】
:
CVD
金刚石膜
场致发射
电子亲合势
势垒
field emission Electron affinity barrier
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金刚石膜场致发射过程是电子从导电基底开始,经基底/金刚石界面、金刚石薄膜体内传输到表面,然后穿过表面势垒进入真空、经真空电场加速到达阳极的一个复杂过程.对该过程进行了较为详细的分析和介绍.
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