【摘 要】
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采用原子层沉积技术（ALD）,以二乙基锌和水为前驱体,在衬底温度分别为110和190℃的条件下制备了致密的氧化锌纳米薄膜。采用X射线光电子能谱,荧光光谱和椭偏仪等表征手段对薄膜
【基金项目】
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北京印刷学院校级科研项目(23190114030);北京市教委面上项目(18190115/013);北印英才项目(2717011500410437)资助
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采用原子层沉积技术（ALD）,以二乙基锌和水为前驱体,在衬底温度分别为110和190℃的条件下制备了致密的氧化锌纳米薄膜。采用X射线光电子能谱,荧光光谱和椭偏仪等表征手段对薄膜的成分和光学性质进行了研究。结果表明,随着沉积温度的增加,氧化锌薄膜内—OH含量降低,说明氧化锌薄膜生长过程中的化学反应更加完全;另外,沉积温度增加后,薄膜在365nm处的激子发射峰出现了明显的增强,同时可见光区的荧光发射峰消失,表明薄膜内的缺陷态减少。随着成膜质量的提高,氧化锌薄膜的电子迁移率从25提高至32cm2·（V·S）-1。椭偏测量的拟合结果表明,在375800nm的波长范围内,氧化锌薄膜的折射率逐渐从2.33降至1.9,呈现出明显的色散现象;另外,不同温度下制备的氧化锌薄膜光学带隙均为3.27eV左右,这说明沉积温度对薄膜的带隙没有明显影响。
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