可用于半导体器件生产的干冰洁净技术

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可用于半导体器件生产的干冰洁净技术半导体生产中,要求表面洁净,这永远是一个十分重要的问题。干冰技术是一项新兴的洁净技术。在一般情况下,干冰的粒径大约为5μm或以下,调节喷嘴后,直径可在很大的范围内控制。干冰可以很有效的除去1μm以下的颗粒,它直接喷到... Dry ice can be used for the production of semiconductor devices clean technology Semiconductor production, the requirements of the surface clean, it is always a very important issue. Dry ice technology is a new clean technology. Under normal circumstances, the dry ice particle size of about 5μm or less, adjust the nozzle, the diameter can be controlled in a very large range. Dry ice can be very effective to remove the particles below 1μm, it is directly sprayed ...
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