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采用射频(RF)磁控溅射在室温下连续逐层沉积,然后在95%Ar+5%H 2混合气氛中进行500℃低温退火制备了Ag/MoS2和Ag/BN/MoS2纳米薄膜,采用拉曼光谱(Raman)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对其结构、组成和表面形貌进行了研究。结果表明:所制备的纳米膜均匀连续,界面紧密且清洁。95%Ar+5%H 2混合气氛中退火能强烈影响顶部MoS2层的形貌并有效去除MoS2中的杂质氧改善其结晶性、稳定性和结构完整性;顶部MoS2层在沉积态时呈细小颗粒状,退火后呈片层状和颗粒状混