【摘 要】
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对二氧化硅反应离子刻蚀中反应室压力,刻蚀气体流量和射频功率等因素对刻蚀速率和刻蚀均匀性的影响进行了研究。结果表明,通过对反应室压力、刻蚀气体流量和射频功率的调节,
【机 构】
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西北工业大学 微/纳米系统实验室,西北工业大学 微/纳米系统实验室,西北工业大学 微/纳米系统实验室,西北工业大学 微/纳米系统实验室 西安 710072,西安 710072,西安 710072,西安
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对二氧化硅反应离子刻蚀中反应室压力,刻蚀气体流量和射频功率等因素对刻蚀速率和刻蚀均匀性的影响进行了研究。结果表明,通过对反应室压力、刻蚀气体流量和射频功率的调节,可以降低微负载效应的影响,得到良好的刻蚀均匀性。
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