PEM控制中频反应磁控溅射制备TiO2薄膜的研究

来源 :真空 | 被引量 : 0次 | 上传用户：guizhong1121

【摘要】

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采用中频反应磁控溅射孪生靶在玻璃基体上沉积TiO2薄膜.沉积过程中采用多路送气和等离子体发射光谱监测控制系统,使整个反应溅射过程维持在“过渡区”,从而快速稳定获得均匀

【作者】

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王治安王军生重洪辉

【机构】

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核工业西南物理研究院,四川成都,610041

【出处】

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真空

【发表日期】

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2011年4期

【关键词】

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TiO2 孪生靶过渡区 PEM

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采用中频反应磁控溅射孪生靶在玻璃基体上沉积TiO2薄膜.沉积过程中采用多路送气和等离子体发射光谱监测控制系统,使整个反应溅射过程维持在“过渡区”,从而快速稳定获得均匀高质量的TiO2薄膜,沉积速度在50 nm/min以上.随着SP值的增加,沉积速率的增加呈线性关系.通过比较不同SP值制备的TiO2薄膜的光谱图发现,快速稳定地沉积TiO2薄膜的SP值大致在2.5～3.8范围内.

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