微细光刻技术的现状与前途

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为了满足先进电路图象分辨率高、各层间对准和线条宽度控制精确的要求,光刻系统研究计划用几种方案。除了努力扩大现用光学系统的性能外,正引用新式X射线和电子束曝光设备。离子光刻技术目前还正处于初期研究阶段。本评论叙述在这些领域中的研制情况,并确定影响其发展的障碍以及逾越这些障碍所要采取的策略,并从目前趋势推断未来的前途。
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