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探讨了获得具有优良高频电磁性能的软磁薄膜的合适工艺条件。指出薄膜的性能主要取决于薄膜的成分、微观组织、磁致伸缩系数、残余应力状态、有无软磁底层、外加磁场溅射沉积和后续磁场热处理等因素。以Fe20CO30为基的软磁薄膜和Fe（Co）-X-N纳米晶软磁薄膜主要应用于要求高饱和磁化强度的器件如磁头中，磁性纳米颗粒膜具有高的电阻率因而趋肤深度较大，有望应用于高频微磁器件如微电感、微变压器的磁芯中。