【摘 要】
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目的 研究调制周期对磁控溅射WB_2/CrN多层膜结构及性能的影响。方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备Al B_2型WB_2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄
【机 构】
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中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
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目的 研究调制周期对磁控溅射WB_2/CrN多层膜结构及性能的影响。方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备Al B_2型WB_2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄膜,采用X射线衍射及扫描电子显微镜对其相结构及形貌进行观察和分析,使用维氏显微硬度仪及划痕仪对多层膜的硬度及膜基结合力进行研究。结果 磁控溅射WB_2/CrN多层薄膜呈现出柱状生长趋势,且层状结构明显,仅当调制周期大于317 nm时,多层膜中才出现WB_2晶体的衍射峰。结论 多层膜中的WB_2薄膜在本实验条件下的临界结晶厚度
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