193nm光刻散射条技术研究

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介绍了 193 nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理.通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193 nm光刻中孤立线散射条的优化方法.
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