作为超大规模集成电路制造中图形转移部分(Pattern Transfer)的关键方法,光刻技术(Photo-lithography)越来越显得举足轻重。特别是......

在亚波长光刻领域，基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形，且不考虑光学邻近......

亚分辨率辅助图形（Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF）是光刻工艺图形增强技术（Resolution Enhancement Technology,RET）中广泛应用......

介绍了 193 nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理......

随着集成电路制造的关键尺寸不断缩小,光刻工艺窗口的大小成为了制约半导体代工生产可靠性和稳定性的重要指标。为了在保证图像解......