开管扩Ga模型的初步建立

来源 :科学技术与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liangjb82

【摘要】

：

依照二次离子质谱(SIMS)、扩散电阻(SRP)和原子力显微镜(AFM)等分析手段,首次阐述了P型杂质Ga由SiO2膜的吸收输运和SiO2-Si内界面上的分凝效应两者的统一,完成硅中可控制掺杂

【作者】

：

裴素华孙海波修显武薛成山杨利郭兴龙

【机构】

：

山东师范大学半导体所

【出处】

：

科学技术与工程

【发表日期】

：

2003年1期

【关键词】

：

SiO2/Si系扩散机理运动轨迹分布规律掺杂二次离子质谱开管扩Ga模型 Ga SiQ_2/Si module of open-tube diff

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依照二次离子质谱(SIMS)、扩散电阻(SRP)和原子力显微镜(AFM)等分析手段,首次阐述了P型杂质Ga由SiO2膜的吸收输运和SiO2-Si内界面上的分凝效应两者的统一,完成硅中可控制掺杂的全过程;并揭示了其中SiO2薄层的表面效应及Si的体内效应;初步建立起SiO2/Si系下开管扩散Ga的模型.

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