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离子注入制程已成为器件设计的最前端工作,现在更被视为实现32 nm和22 nm晶体管制程的推动要素.器件漏电流、浅结面制作,器件尺寸缩小,以及急速增加成本的挑战,正在限制摩尔定律的延伸.针对32 nm节点离子注入制程器件的工艺要求.介绍了离子注入设备的发展方向.
离子注入技术现状与发展趋势
【摘 要】
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离子注入制程已成为器件设计的最前端工作,现在更被视为实现32 nm和22 nm晶体管制程的推动要素.器件漏电流、浅结面制作,器件尺寸缩小,以及急速增加成本的挑战,正在限制摩尔
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2004年期
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