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为了提高WOx薄膜的电致变色性能，笔者采用磁控反应溅射工艺，以纯钨和纯钛为靶材在ITO玻璃上制备Ti掺杂WOx电致变色薄膜，用薄膜的透射光谱和XRD衍射方法对掺杂后薄膜的电致变色性能和结构进行了分析，研究了Ti掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理．实验表明：Ti掺杂不会降低WOx薄膜的致色效果，还能显著提高薄膜的循环寿命，缩短响应时间，提高记忆存储能力，XRD分析表明，掺杂Ti之后的WOx薄膜仍为非晶态，且非晶态有增强的趋势．