真空高温氢化法制备Pd-Zr复合膜

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为了获得低成本、高渗氢率、长寿命、高强度的选择渗氢膜,耐熔金属锆(Zr)被选作复合膜的基体.在真空4.0×10-4Pa、温度650℃的反应条件下,锆表面氧化膜松动、分解,氧化膜被去除;再在氢气氛中使其洁净表面上生成一层氢化锆保护膜;在真空度为6.6×10-6Pa下,采用离子溅射镀膜法,在锆片(φ50 mm×0.23 mm)的双表面上分别镀上了一层厚约400nm的钯(Pd)薄膜,钯膜均匀、细腻、光洁,膜厚易控制;再经过退火处理,制得了Pd-Zr复合膜,膜面致密,钯膜与基体锆结合
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