等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展

来源 :兵器材料科学与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ouyang

【摘要】

：

等离子体化学气相沉积(PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了近年来PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势.

【作者】

：

马胜利徐可为

【机构】

：

西安交通大学西安交通大学

【出处】

：

兵器材料科学与工程

【发表日期】

：

2000年3期

【关键词】

：

PCVD硬质膜:工艺:结合强度:研究进展 PCVD thin hard coating processing bonding strength new deve

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