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采用酸性醋酸铜体系，在透明导电玻璃（ITO）上恒电位沉积Cuu2O薄膜，研究阴极还原Cu2O的电化学行为，利用x射线衍射（XRD）和场发射扫描电子显微镜（SEM）分析了Cu2O薄膜的微观结构和表面形貌，通过控制电沉积时间，研究Cu2O薄膜的表面形貌变化规律，讨论了Cu2O的生长机理。
Cu2O薄膜的电化学沉积和生长机理研究
【摘 要】
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采用酸性醋酸铜体系，在透明导电玻璃（ITO）上恒电位沉积Cuu2O薄膜，研究阴极还原Cu2O的电化学行为，利用x射线衍射（XRD）和场发射扫描电子显微镜（SEM）分析了Cu2O薄膜的微观结构和表面形貌，
【机 构】
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景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院,清华大学材料科学与工程系,吉林大学超硬材料国家重点实验室
【出 处】
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人工晶体学报
【发表日期】
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2013年3期
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