【摘 要】
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研制了氧化铪(HfO2)层厚度名义值分别为1nm、5nm、10nm的3种氧化铪薄膜膜厚标准物质,采用溯源至SI长度和角度基准的纳米薄膜厚度校准装置为标准物质候选物定值.研究建立了具
【机 构】
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中国计量科学研究院,北京 100029
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研制了氧化铪(HfO2)层厚度名义值分别为1nm、5nm、10nm的3种氧化铪薄膜膜厚标准物质,采用溯源至SI长度和角度基准的纳米薄膜厚度校准装置为标准物质候选物定值.研究建立了具有普适性的四层拟合模型,基于该模型对不同厚度的氧化铪薄膜的测量曲线进行了拟合,这是拟合结果准确可靠的基础.氧化铪薄膜膜厚标准物质具有良好的均匀性和稳定性,氧化铪层膜厚量值不确定度为0.04～0.06nm(k=2).通过国际比对证明了掠入射X射线反射法测量纳米尺度膜厚的准确性,量值与国际等效,故标准物质量值准确可靠.
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