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在现今大规模集成电路制造过程中，某些Memory，LCD产品的金属线刻蚀工序，在刻蚀生成聚合物的洗净过程中容易产成金属颗粒（主要是Cu颗粒）。对其工艺流程因素，机台硬件因素，产生机理进行了调查，得出了结论，并提出了有效的解决方案。
金属线刻蚀工序光刻胶剥离工程中金属颗粒(Cu)析出案例调查及解决方案
【摘 要】
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在现今大规模集成电路制造过程中，某些Memory，LCD产品的金属线刻蚀工序，在刻蚀生成聚合物的洗净过程中容易产成金属颗粒（主要是Cu颗粒）。对其工艺流程因素，机台硬件因素，产生机理进
【机 构】
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上海交通大学电子工程系
【出 处】
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黑龙江科技信息
【发表日期】
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2008年8期
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