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采用调制偏压射频控溅射技术在多晶Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ－Ｃ金属基带上制备钇稳定的ＺｒＯ２薄膜（ＹＳＺ），得到了ｃ－轴织构和部分平面内双轴织构的ＹＳＺ薄膜。用Ｘ射线衍射θ－２θ扫描、ω扫描和φ扫描对ＹＳＺ薄膜的织构进行了测量，并研究了沉积条件对织构形成的影响。
在多晶金属基片上制备双轴织构YSZ膜
【摘 要】
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采用调制偏压射频控溅射技术在多晶Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ－Ｃ金属基带上制备钇稳定的ＺｒＯ２薄膜（ＹＳＺ），得到了ｃ－轴织构和部分平面内双轴织构的ＹＳＺ薄膜。用Ｘ射线衍射θ－２θ扫描、ω扫描和φ扫描对ＹＳＺ薄膜的织构进行了测量，并研究
【机 构】
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北京有色金属研究总院
【出 处】
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中国稀土学报
【发表日期】
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1998年3期
【基金项目】
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国家自然科学基金,国家超导委员会资助项目
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