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Nd∶YV04晶体一般采用808 nm激光作为泵浦源,但是其强烈的吸收导致了严重的量超过250μJ的1 064nm皮秒激光输出.该再生放大器具备体积紧凑、脉冲稳定、单脉冲统的光源.
端面泵浦皮秒再生放大器
【摘 要】
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Nd∶YV04晶体一般采用808 nm激光作为泵浦源,但是其强烈的吸收导致了严重的量超过250μJ的1 064nm皮秒激光输出.该再生放大器具备体积紧凑、脉冲稳定、单脉冲统的光源.
【机 构】
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华中光电技术研究所一武汉光电国家研究中心,湖北武汉430223
【出 处】
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光学与光电技术
【发表日期】
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2020年2期
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