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飞秒激光制备CdS薄膜滤波器的研究
飞秒激光制备CdS薄膜滤波器的研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:leon7779
【摘 要】
:
采用脉冲飞秒激光沉积方法,在石英衬底上制备了CdS薄膜滤波器.研究显示衬底温度在100~600℃范围内变化对CdS薄膜衬底的结构及光学特性有重要影响,在450℃的衬底温度下所生长的
【作 者】
:
童杏林
刘恋
姜德生
刘忠明
【机 构】
:
武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2007年5期
【关键词】
:
CdS薄膜滤波器
脉冲激光沉积
结构和光学特性
CdS thin film filter femtosecond pulse laser deposition
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采用脉冲飞秒激光沉积方法,在石英衬底上制备了CdS薄膜滤波器.研究显示衬底温度在100~600℃范围内变化对CdS薄膜衬底的结构及光学特性有重要影响,在450℃的衬底温度下所生长的CdS薄膜具有较好的结构质量,该薄膜在500nm附近具有较陡的吸收带边及良好的光学滤波性能.
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