光刻机曝光技术演进

来源 :集成电路应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户：hellogph

【摘要】

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<正> 1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提

【作者】

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白杉

【出处】

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集成电路应用

【发表日期】

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2003年12期

【关键词】

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集成电路光刻机光学曝光准分子激光极紫外曝光限角散射电子束投影曝光

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<正> 1 引言目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约15%的速度增长,而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。集成电路之所以能飞

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