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概述了非晶硅薄膜的金属诱导晶化原理，介绍了Al，Ni两种金属诱导非晶硅薄膜晶化的一般规律，详细探讨了金属诱导条件下非晶硅薄膜的本质晶化机理，旨在为非晶硅薄膜的低温成核、晶化机理研究和多晶硅薄膜的研发制备提供实验支持与理论参考。
非晶硅薄膜的金属诱导晶化研究现状
【摘 要】
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概述了非晶硅薄膜的金属诱导晶化原理，介绍了Al，Ni两种金属诱导非晶硅薄膜晶化的一般规律，详细探讨了金属诱导条件下非晶硅薄膜的本质晶化机理，旨在为非晶硅薄膜的低温成核、晶化
【机 构】
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宁夏职业技术学院
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2011年5期
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