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用ＤＭＰ－４５０型电子束镀膜机，制备了Ｙ２Ｏ３－ＺｒＯ２膜，并将它用作１．３μｍ半导体激光器的减反射膜。测试结果表明，镀膜后的半导体激光器其外微分子量效率明显提高，线性化也有改善。对于减反程度很高的管子，出现了超辐射现象。本文对这些现象及有关机理进行了讨论。
电子束蒸镀Y2O3—ZrO2减反射膜用于1.3μm半导体激光器
【摘 要】
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用ＤＭＰ－４５０型电子束镀膜机，制备了Ｙ２Ｏ３－ＺｒＯ２膜，并将它用作１．３μｍ半导体激光器的减反射膜。测试结果表明，镀膜后的半导体激光器其外微分子量效率明显提高，线性化也有改善。对于减反程度很高的管子，出现了
【机 构】
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四川大学物理系辐射物理及技术国家教委开放实验室
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1999年11期
【基金项目】
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国家自然科学基金,国家教委高校博士学科点专项科研基金
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