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一种MCT离子注入工艺的模型及其计算机 模拟方法
一种MCT离子注入工艺的模型及其计算机 模拟方法
来源 :红外技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jiangda
【摘 要】
:
给出了一种简单而有效的碲镉汞(MCT)离子注入工艺模型,研究了应用该模型进行计算机模拟的数值方法,最后讨论了该模型中一些重要参数的确定方法。
【作 者】
:
刘向华
仲顺安
曲秀杰
【机 构】
:
北京理工大学电子工程系
【出 处】
:
红外技术
【发表日期】
:
2001年1期
【关键词】
:
碲镉汞
离子注入
计算机模拟
HgCdTeion implantationmodelingsimulation
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给出了一种简单而有效的碲镉汞(MCT)离子注入工艺模型,研究了应用该模型进行计算机模拟的数值方法,最后讨论了该模型中一些重要参数的确定方法。
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