宽温区高温体硅CMOS倒相器的优化设计

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:codemachine
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在对体硅CMOS倒相器直流特性、瞬态特性的高温模型和高温特性深入研究的基础上,提出了高温体硅CMOS倒相器结构参数设计的考虑,给出了宽温区(27~250 ℃)体硅CMOS倒相器优化设计的结果.模拟验证表明,所设计的体硅CMOS倒相器在宽温区能满足下列电学参数设计指标:输出高电平VoH>4.95 V,输出低电平VoL<0.05 V,转换电平Vi(27 ℃)=2.5 V,Vi(250℃)=2.4 V,上升时间tr(27 ℃)<110 ns,tr(250 ℃)<180 ns,下降时间tf(27 ℃)<110
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