【摘 要】
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本文以HNO3/HBrO3/KMnO4为氧化插层体系制备低温可膨胀石墨,研究了制备低温可膨胀石墨的最佳条件和物料配比,讨论了插层试剂对起始膨胀温度的影响,提出了氧化插层的机理。研
【机 构】
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河北农业大学理学院,河北农业大学食品科技学院
【基金项目】
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河北省科技攻关资助项目(06240223D-3)
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本文以HNO3/HBrO3/KMnO4为氧化插层体系制备低温可膨胀石墨,研究了制备低温可膨胀石墨的最佳条件和物料配比,讨论了插层试剂对起始膨胀温度的影响,提出了氧化插层的机理。研究表明:制备低温可膨胀石墨的反应温度为室温(25℃);反应时间40min;石墨、硝酸、溴酸钠、高锰酸钾的最佳质量比为1∶3∶0.1∶0.07,由此方法制得的可膨胀石墨起始膨胀温度为130℃,600℃时膨胀容积为350mL/g。
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