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光刻机照明系统采用部分相干照明,通过对照明系统的光瞳调制改变照明模式和相干因子,能够进一步提高曝光分辨率和焦深.针对空间光阑滤波、变焦镜、轴锥镜、DOE衍射元件以及数字微镜阵列等多种光瞳调制方案开展研究,分析了它们的技术特点和应用场景,论述了光瞳调制的重要意义.
照明光瞳调制技术研究
【摘 要】
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光刻机照明系统采用部分相干照明,通过对照明系统的光瞳调制改变照明模式和相干因子,能够进一步提高曝光分辨率和焦深.针对空间光阑滤波、变焦镜、轴锥镜、DOE衍射元件以及数字微镜阵列等多种光瞳调制方案开展研究,分析了它们的技术特点和应用场景,论述了光瞳调制的重要意义.
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2021年5期
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